中国在光刻机领域也有不少企业，比如中微公司、微创光电、九洲电子等，但目前仍没有企业能够生产13.5纳米波长的EUV光刻机。不过，中国在2018年完成了一台采用193纳米光源的ArF光刻机，其分辨率达到了22纳米，可以用于制造22纳米及以上的芯片。这台光刻机由中微公司、上海微电子装备和中国电子科技集团等企业联合研制，被认为是中国半导体产业发展的一个重要里程碑。

综上所述，中国最先进的光刻机是22纳米，尽管中国在EUV光刻机方面已经取得了一定进展，但其量产和商业化进程仍然较为缓慢，未来随着中国技术的高速发展，相信中国很快也能生产7纳米的光刻