低压硼扩散炉是一种用于将硼材料扩散到半导体晶片表面的设备。在炉内，硼源材料如硼砷酸或硼酸在高温条件下分解释放出硼气体，通过气氛流动将硼气体输送到晶片表面，并在低压环境下使硼原子渗透到晶片中，从而改变晶片的导电特性。

该过程需要严格控制炉内温度、压力和气氛，以确保扩散的均匀性和准确性。